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郑耀东 (郑耀东.) [1] | 戴品强 (戴品强.) [2] | 许伟长 (许伟长.) [3] | 胡树韧 (胡树韧.) [4]

Indexed by:

CQVIP PKU CSCD

Abstract:

通过直流电沉积制备平均晶粒度为27.2 nm,宽晶粒尺寸分布(10~120 nm)的纳米镍(B-NC-Ni).在B-NC-Ni的拉伸实验中,存在着两类不同的工程应力-应变曲线及宏观断口,结果表明:完整的拉伸曲线即本征曲线,具有恒应力变形阶段,宏观断口呈切断;而不完整的拉伸曲线在平台出现之前已发生断裂,主要是由于电沉积时阴极析出的H可能会使镀层形成空位和微孔两类缺陷,均会加剧变形时晶界上裂纹的形成,宏观断口呈正断.此外,实验中杂质S(0.015%,质量分数,下同)对B-NC-Ni的拉伸性能影响可忽略.

Keyword:

Distribution GRAIN Size 不完整 变形阶段 宏观断口 平均晶粒度 应变曲线 性能影响 恒应力 拉伸实验 拉伸曲线 拉伸行为 晶粒尺寸分布 本征曲线 杂质 析出 电沉积制备 直流 纳米镍 质量分数 阴极

Community:

  • [ 1 ] 福州大学,福建,福州,350108
  • [ 2 ] 福建工程学院,福建,福州,350108
  • [ 3 ] 北京工业大学,北京,100124

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Source :

稀有金属材料与工程

ISSN: 1002-185X

Year: 2010

Issue: 10

Page: 1845-1848

0 . 1 3 9

JCR@2010

0 . 6 0 0

JCR@2023

JCR Journal Grade:4

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