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author：

Niancai Cheng (Niancai Cheng.) [1] | Xueliang (Andy) Sun (Xueliang (Andy) Sun.) [2]

Indexed by：

PKU CSCD

Abstract：

贵金属单原子催化剂因具有独特的催化性能和高的利用率而迅速引人关注.原子层沉积(ALD)逐渐成为大批量合成稳定单原子的有力工具.本文总结了采用ALD合成单原子的最新进展,以及未来的研究方向和趋势.

Keyword：

催化 单原子 原子层沉积 机理 贵金属催化剂

Community：

  • [ 1 ] [Niancai Cheng]西安大略大学机械材料工程系, 加拿大;福州大学材料科学与工程学院, 福建福州350108, 中国
  • [ 2 ] [Xueliang (Andy) Sun]西安大略大学机械材料工程系, 加拿大

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Source ：

催化学报

ISSN： 0253-9837

CN： 21-1601/O6

Year： 2017

Issue： 9

Volume： 38

Page： 1508-1514

3 . 5 2 5

JCR@2017

1 5 . 7 0 0

JCR@2023

ESI HC Threshold：226

JCR Journal Grade：1

CAS Journal Grade：2

Cited Count：

WoS CC Cited Count：

SCOPUS Cited Count： 66

ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All

WanFang Cited Count： -1

Chinese Cited Count：

30 Days PV： 3

Affiliated Colleges：

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Online/Total：218/10000237
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