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于映 (于映.) [1] | 赵晨 (赵晨.) [2] | 罗仲梓 (罗仲梓.) [3] | 翁心桥 (翁心桥.) [4]

Abstract:

本文采用氯苯浸泡法对(0.2~2.0)μm的Al、Au溅射薄膜进行剥离,分析了光刻胶厚度和薄膜厚度与剥离图形的关系,对剥离过程中氯苯浸泡工艺以及溅射工艺对剥离图形的影响进行了研究,并在2.0μm厚的Al和Au溅射薄膜上剥离出8.0μm的缝隙。

Keyword:

光刻胶厚度 剥离技术 氯苯浸泡法 溅射薄膜

Community:

  • [ 1 ] [罗仲梓]厦门大学萨本栋微机电研究中心
  • [ 2 ] [翁心桥]厦门大学萨本栋微机电研究中心
  • [ 3 ] [于映]福州大学电子科学与应用物理系
  • [ 4 ] [赵晨]浙江万里学院计算机与信息学院

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Year: 2004

Page: 112-114

Language: Chinese

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