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采用离子束溅射沉积法,通过溅射Sm-Fe-B合金靶、Ni-Fe靶及纯Fe靶,在锡青铜和盖玻片衬底上溅射沉积由B掺杂的Sm-Fe-B负磁致伸缩薄膜与Ni-Fe、纯Fe组合的纳米级耦合薄膜材料.通过采用LK-500激光微位移传感器测量薄膜自由端偏转量,用交变梯度磁强计测试薄膜的磁滞回线,研究不同比例的膜态组合及不同软磁材料耦合的膜态组合对薄膜的磁致伸缩性能及软磁特性的影响.实验结果表明:磁致伸缩层与软磁层的比例为3:1时的磁致伸缩性能、软磁特性最佳；且在磁致伸缩层与软磁层耦合的比例为3:1基础上,通过改变耦合软磁层材料种类,薄膜的磁致伸缩性能与软磁特性可以得到进一步改善.
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真空电子技术
ISSN： 1002-8935
CN： 11-2485/TN
Year： 2012
Issue： 5
Page： 18-21
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