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黄国强 (黄国强.) [1] | 毛俊楠 (毛俊楠.) [2] | 王红星 (王红星.) [3] | 华超 (华超.) [4]

Indexed by:

CQVIP PKU CSCD

Abstract:

建立了氢气和三氯氢硅系统的多晶硅气相沉积反应模型,通过Chemkin4.0耦合气相反应、表面反应机理,利用流体力学软件Fluent 6.3.26数值求解.根据模拟结果绘制了进气温度、进气组成、沉积表面温度以及反应压力与硅沉积速率的关系曲线,阐述了这些条件对于硅沉积速率的影响,同时把模拟结果与文献中的实验数据和计算结果进行对比.结果表明,硅沉积速率随反应温度和反应压力的提高而提高,随进气温度的提高而提高,当氢气摩尔组成低于0.8时,与氢气物质的量组成成正比,氢气物质的量组成大于0.8时,与氢气摩尔组成成反比.

Keyword:

传质 化学气相沉积 反应 多晶硅 数值模拟 硅沉积速率

Community:

  • [ 1 ] [黄国强]天津大学
  • [ 2 ] [毛俊楠]天津大学
  • [ 3 ] [王红星]福州大学
  • [ 4 ] [华超]中国科学院过程工程研究所

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Source :

人工晶体学报

ISSN: 1000-985X

CN: 11-2637/O7

Year: 2012

Issue: 3

Volume: 41

Page: 680-686

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