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陈闪闪 (陈闪闪.) [1] | 戴品强 (戴品强.) [2] | 郑贞 (郑贞.) [3] | 洪永志 (洪永志.) [4]

Indexed by:

CQVIP PKU CSCD

Abstract:

通过脉冲电沉积方法制备纳米晶Ni镀层.采用浸泡法和电化学方法研究了不同温度低温退火纳米晶Ni镀层在3.5wt.%NaCl和5wt.%HCl溶液中的腐蚀行为.结果表明:150℃以下退火,晶粒未出现明显长大.在3.5wt.%NaCl溶液中,镀层耐蚀性随退火温度的升高而提高;200℃退火后镀层的耐蚀性最好,镀层表面均有钝化现象.在5wt.%HCI溶液中,退火后镀层的耐蚀性有所提高,但退火温度的影响不大,镀层腐蚀过程中未观察到钝化现象.

Keyword:

低温退火 纳米晶Ni 耐蚀性 脉冲电沉积

Community:

  • [ 1 ] [陈闪闪]福州大学
  • [ 2 ] [戴品强]福州大学
  • [ 3 ] [郑贞]福州大学
  • [ 4 ] [洪永志]福州大学

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Source :

材料科学与工程学报

ISSN: 1673-2812

CN: 33-1307/T

Year: 2009

Issue: 4

Volume: 27

Page: 605-609

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