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通过直流与脉冲电沉积分别制备平均晶粒度为 20~30 nm,宽晶粒度分布(5~120 nm)的纳米镍。在室温静拉伸应变速率范围内,直流电沉积制备的纳米镍的平均抗拉强度和平均断裂延伸率分别为 1176 MPa 与 10.6%。而由脉冲电沉积技术制备的纳米镍抗拉强度可达 1500 MPa 之上,最高断裂延伸率可达 13.3%。与电沉积获得的普通窄晶粒度分布的纳米镍相比,宽晶粒度分布的纳米镍的塑性要高出 100%以上。其原因是大型晶粒内部允许位错的存在,且理论计算表明,晶内位错可通过 Frank-Read 源机制进行增殖。
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稀有金属材料与工程
ISSN： 1002-185X
CN： 61-1154/TG
Year： 2009
Issue： 12
Volume： 38
Page： 2075-2079
0 . 1 6 1
JCR@2009
0 . 6 0 0
JCR@2023
JCR Journal Grade：4
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