Indexed by：
Abstract：
本发明涉及一种利用冷等离予体对材料表面进行处理的设备及其处理工艺。其主要特点是采用直流辉光放电中较长的正柱区产生冷等离予体，并利用它对材料表面进行处理。真空室的两端各设一个电极。如真空室中需要传动装置，则真空室两端还设有支撑板，支撑板之间装有若干根转轴和一根主动传动轴。主动传动轴带动被处理材料通过放电区。本发明具有结构简单、造价低、易于大规模工业生产、无电磁污染和处理效果好等优点。
Keyword：
Reprint 's Address：
Email：
Patent Info ：
Type： 发明授权
Patent No.： CN89107909.2
Filing Date： 1989/10/10
Publication Date： 1996/11/13
Pub. No.： CN1033283C
公开国别： CN
Applicants： 福州大学
Legal Status： 未缴年费
Cited Count：
WoS CC Cited Count： 0
SCOPUS Cited Count：
ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All
WanFang Cited Count：
Chinese Cited Count：
30 Days PV： 2
Affiliated Colleges：
