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黄兴云 (黄兴云.) [1] | 谢潇婷 (谢潇婷.) [2] | 杨开宇 (杨开宇.) [3] | 李福山 (李福山.) [4]

Abstract:

目前,通过各种量子点图案化技术制备的高分辨率量子点发光二极管(Quantum dot light-emitting diode,QLED)普遍面临低效率的问题,其主要原因是像素之间存在较大的漏电流。为了解决该问题,本文采用纳米压印技术制备了蜂窝状聚甲基丙烯酸甲酯(Poly(methyl methacrylate),PMMA)薄膜,并将其作为电荷阻挡层应用在QLED发光层中,成功获得了分辨率为8 467像素每英寸(Pixel per inch,PPI)的红色QLED器件。由于PMMA良好的绝缘特性,电荷阻挡层成功隔绝了电子传输层和空穴传输层的直接接触,所制备器件的漏电流相较于无阻挡层图案化器件大幅降低,使其外量子效率(External quantum efficiency,EQE)得到较大提升,最大EQE达到了15.31%,最大亮度为100 274 cd/m

Keyword:

电荷阻挡层 纳米压印 量子点发光二极管(QLED) 高分辨率

Community:

  • [ 1 ] 福州大学物理与信息工程学院
  • [ 2 ] 中国福建省光电信息科技创新实验室

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Source :

发光学报

Year: 2025

Issue: 06

Volume: 46

Page: 1120-1128

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