Abstract:
采用射频磁控溅射技术,在不同的沉积温度条件下,以掺2wt%Al2O3的ZnO陶瓷靶作为靶材,在石英玻璃上制备ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜。本文通过测试不同沉积温度下制备薄膜的XRD图,透过率曲线,以及薄膜电阻率,载流子浓度,迁移率来研究薄膜的结构及其光电性能,通过对比分析得到一个最优参数。结果表明:制备出来的AZO薄膜是六角纤锌矿结构,具有明显的(002)峰择优取向;薄膜在可见光区域内的平均透过率为84%左右;不同沉积温度对薄膜的电阻率影响很大。当沉积温度为250℃,溅射气压为0.052Pa,溅射功率为1000W,沉积厚度为200nm时,电阻率降到最低值为7.089×10-4Ωcm。
Keyword:
Reprint 's Address:
Email:
Source :
Year: 2012
Page: 342-345
Language: Chinese
Cited Count:
SCOPUS Cited Count:
ESI Highly Cited Papers on the List: 0 Unfold All
WanFang Cited Count: -1
Chinese Cited Count:
30 Days PV: 9
Affiliated Colleges: