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陈为平 (陈为平.) [1] | 高诚辉 (高诚辉.) [2] (Scholars:高诚辉) | 任志英 (任志英.) [3] (Scholars:任志英) | 林春生 (林春生.) [4]

Indexed by:

CQVIP PKU CSCD

Abstract:

针对游离单颗磨粒与光学元件滚动接触过程中摩擦、磨损机理分析的不足及如何有效控制滚动单颗磨粒对光学元件亚表面损伤的影响等问题,基于滚动接触理论,提出了一种具有分形特征表面的单颗磨粒与光学元件双粗糙面间的摩擦、磨损接触模型,并运用有限元仿真分析微观动态滚动的接触过程.通过对不同剪切强度下接触力、接触应力、磨粒角度及其对亚表面损伤的影响等分析,发现随着剪切强度的增强,磨粒与光学元件表面接触界面间的摩擦系数将减小,最佳的磨粒角度为105°~120°,并且分形特征的单颗磨粒对亚表面损伤的影响要大于球形特征单颗磨粒,这说明了研究分形特征游离单颗磨粒滚动接触的必要性和重要性,为更加深刻了解滚动接触过程的摩擦机理提供了借鉴意义.

Keyword:

亚表面损伤 有限元分析 游离单颗磨粒 滚动接触 磨粒角度

Community:

  • [ 1 ] [陈为平]福州大学
  • [ 2 ] [高诚辉]福州大学
  • [ 3 ] [任志英]福州大学
  • [ 4 ] [林春生]福建福光数码科技有限公司

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Source :

图学学报

ISSN: 2095-302X

CN: 10-1034/T

Year: 2015

Issue: 4

Volume: 36

Page: 537-545

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