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基于在NaOH介质中, 强力霉素对Luminol-KMnO4体系发光反应具有强烈的抑制作用, 建立起流动注射抑制化学发光测定痕量强力霉素的新方法. 强力霉素在0.005～5.0 μg· mL-1浓度范围内, 采用不同的KMnO4溶液浓度, 分段建立起抑制化学发光强度与其浓度间良好的线性关系, 方法的检出限为2.0×10-3μg·mL-1. 该方法可用于药片中强力霉素含量的测定.
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光谱学与光谱分析
ISSN： 1000-0593
CN： 11-2200/O4
Year： 2004
Issue： 1
Volume： 24
Page： 15-17
0 . 3 5
JCR@2004
0 . 7 0 0
JCR@2023
ESI Discipline： CHEMISTRY;
JCR Journal Grade：4
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