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首次在多孔硅(PS)的表面镀纳米二氧化钛(TiO2)薄膜,表面光电压谱(SPS)测试表明:镀膜后多孔硅的光电压信号增强约2～3个数量级,其原因可能是双异质结构TiO2/PS/p-Si能有效地吸收近红外一直到紫外光,并且近本征的多孔硅自建电场增大,使光生电子-空穴对能有效地分离;PS/p-Si之间的势垒差产生的阻止少子向电极扩散的背向电场,也能有效地增强光生电压.
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材料研究学报
ISSN： 1005-3093
CN： 21-1328/TG
Year： 2000
Issue： 5
Volume： 14
Page： 558-560
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