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author:

黄浩 (黄浩.) [1] | 魏喆良 (魏喆良.) [2] | 唐电 (唐电.) [3]

Indexed by:

PKU CSCD

Abstract:

集成电路 (IC)技术的快速发展对金属互连技术提出了更高的要求。传统的Al金属互连技术已经不能满足现代互连技术发展的需要 ,大马士革结构的Cu金属互连技术已成为互连技术的重点发展方向之一。本文重点介绍了目前Cu互连技术及其面临的关键问题 ,同时还介绍了近期出现的新型Ag互连技术 ,最后对未来互连技术的发展趋势提出了思考与展望

Keyword:

巨大规模 金属互连 集成电路

Community:

  • [ 1 ] 福州大学材料研究所
  • [ 2 ] 福州大学材料研究所 福建福州350002
  • [ 3 ] 福建福州350002
  • [ 4 ] 福建福州350002美国密苏里罗拉大学材料研究中心
  • [ 5 ] 罗拉65409

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Source :

金属热处理

Year: 2004

Issue: 08

Page: 26-31

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