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利用不同的热处理温度对磁控溅射在玻璃基底的ITO薄膜进行退火处理。借助于原子力显微镜(AFM)、分光辐射计、四探针电阻测试仪等测试手段对不同热处理后的ITO薄膜样品进行表征,研究了不同热处理温度对ITO薄膜表面形貌、面电阻、透光率及抗刻蚀性能的影响。结果表明,随着退火温度的升高,ITO薄膜表面粗糙度增加,面电阻增大,在可见光区的透光率变大,耐刻蚀性增强。
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福州大学学报：自然科学版
ISSN： 1000-2243
CN： 35-1337/N
Year： 2008
Issue： 4
Volume： 36
Page： 523-526
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