We　studied　the　effect　of　silicon　doping　on　the　structure　and　crystallization　behavior　of　50V2O5-50TeO2　(mol%)　(VT)　glass　by　performing　solid-state　nuclear　magnetic　resonance　(NMR),　Fourier-transform　infrared　spectroscopy　(FTIR),　X-ray　diffraction　(XRD),　and　differential　scanning　calorimetry　(DSC).　We　observed　two　interesting　phenomena.　First,　when　the　mixture　of　glass　and　Si　is　heated　in　argon　to　560　K　(1.1Tg),　Si　starts　to　react　with　VT　glass　and　is　oxidized　to　amorphous　silica,　being　confirmed　by　NMR　and　FTIR.　Second,　Si　suppresses　the　formation　of　the　Te2V2O9　phase　in　VT　glass　during　heating　process　up　to　650　K　(about　1.3Tg),　whereas　it　leads　to　the　formation　of　the　new　crystalline　phase　TeVO4　during　heating　to　725　K　(1.4Tg).　We　discuss　the　origin　of　these　two　phenomena　by　considering　the　changes　both　in　glass　structure　and　in　the　redox　reaction.