Abstract：
综述了半导体光催化剂发生光腐蚀的机理,并总结了抑制光腐蚀的策略,包括调控半导体光催化剂的晶粒大小、形貌结构、结晶度等物理性质,以及掺杂杂原子、构建异质结结构、半导体复合、与碳基材料耦合、调节反应条件等方面,旨在深入揭示光腐蚀的发生途径和作用原理,为有效解决半导体光催化剂的光腐蚀问题提供指导意见.最后,总结和展望未来光催化剂光腐蚀的抑制策略.
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Source ：
莆田学院学报
ISSN： 1672-4143
CN： 35-1261/Z
Year： 2023
Issue： 2
Volume： 30
Page： 1-10
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