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翁卫祥 (翁卫祥.) [1] | 马靖 (马靖.) [2] (Scholars:马靖) | 许灿华 (许灿华.) [3] (Scholars:许灿华) | 吕佩伟 (吕佩伟.) [4]

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Abstract:

利用磁控溅射和湿法刻蚀技术在玻璃基底上制备ATO/Ag/ATO/Cr复合薄膜及其电极,研究不同热处理温度对薄膜电极结构、表面形貌以及电学性能的影响.由于ATO(Sb掺杂SnO2)和Cr的共同保护作用,不仅有效阻挡氧气向电极表面扩散造成Ag的氧化,同时抑制Ag薄膜在高温下的表面凝聚现象,使得薄膜电极在550℃空气退火后,仍然具有较低的电阻率,为23 nΩ·m,且经过600℃的高温处理后依然具有较好的导电性能.因此,选择一定厚度的ATO作为Ag的保护层能显著提高Ag基薄膜电极在热处理过程中的抗氧化性.单项试验结果表明,此厚度30 ~ 60 nm为宜.

Keyword:

ATO/Ag/ATO/Cr薄膜电极 抗氧化性 电学性能 表面形貌

Community:

  • [ 1 ] [翁卫祥]福州大学
  • [ 2 ] [马靖]福州大学
  • [ 3 ] [许灿华]福州大学
  • [ 4 ] [吕佩伟]福州大学

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实验室研究与探索

ISSN: 1006-7167

CN: 31-1707/T

Year: 2018

Issue: 11

Volume: 37

Page: 45-48

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