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于映 (于映.) [1] | 吴清鑫 (吴清鑫.) [2] | 罗仲梓 (罗仲梓.) [3]

Abstract:

氮化硅薄膜具有致密的结构、高强度和良好的耐磨性能,可用于MEMS器件中作为结构部件.本文采用PECVD法制备氮化硅薄膜,对氮化硅薄膜的杨氏模量和硬度进行了测试,并分析了沉积温度、反应气体流量比对薄膜杨氏模量和硬度的影响.应用氮化硅薄膜作为悬梁,制作了射频MEMS开关.

Keyword:

MEMS 力学性能 射频开关 杨氏模量 氮化硅薄膜

Community:

  • [ 1 ] [罗仲梓]厦门大学萨本栋微机电研究中心
  • [ 2 ] [于映]福州大学物理与信息工程学院
  • [ 3 ] [吴清鑫]福州大学物理与信息工程学院

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Year: 2006

Page: 1967-1969

Language: Chinese

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