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郑耀东 (郑耀东.) [1] | 戴品强 (戴品强.) [2] | 许伟长 (许伟长.) [3] | 胡树韧 (胡树韧.) [4]

Indexed by:

CQVIP PKU CSCD

Abstract:

通过直流电沉积制备平均晶粒度为27.2 nm,宽晶粒尺寸分布(10~120 nm)的纳米镍(B-NC-Ni).在B-NC-Ni的拉伸实验中,存在着两类不同的工程应力-应变曲线及宏观断口,结果表明:完整的拉伸曲线即本征曲线,具有恒应力变形阶段,宏观断口呈切断;而不完整的拉伸曲线在平台出现之前已发生断裂,主要是由于电沉积时阴极析出的H可能会使镀层形成空位和微孔两类缺陷,均会加剧变形时晶界上裂纹的形成,宏观断口呈正断.此外,实验中杂质S(0.015%,质量分数,下同)对B-NC-Ni的拉伸性能影响可忽略.

Keyword:

拉伸行为 电沉积 纳米镍 阴极析氢

Community:

  • [ 1 ] [郑耀东]福州大学
  • [ 2 ] [戴品强]福州大学
  • [ 3 ] [许伟长]福州大学
  • [ 4 ] [胡树韧]北京工业大学

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Source :

稀有金属材料与工程

ISSN: 1002-185X

CN: 61-1154/TG

Year: 2010

Issue: 10

Volume: 39

Page: 1845-1848

0 . 1 3 9

JCR@2010

0 . 6 0 0

JCR@2023

ESI Discipline: MATERIALS SCIENCE;

JCR Journal Grade:4

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