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场发射显示(FED)被认为是CRT的平板化,受到人们关注.作者采用直流磁控溅射法,在Al2O3过渡层上制备面心立方结构的Ag多晶薄膜.通过XRD、SEM、AFM测试分析发现,溅射功率分为两个区域,在溅射功率不高于2.8 kW时,沉积速率随着功率线性增大,得到Ag膜晶粒尺寸均一,薄膜电阻率逐步降低;溅射功率高于2.8 kW后,沉积速率没有显著增大,出现较多的大晶粒,电阻率升高,并且从理论上给出了解释.综合来看,溅射功率在2.8 kW所制备的Ag膜微观结构质量达到最佳,电阻率也达到最小值.
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发光学报
ISSN： 1000-7032
CN： 22-1116/O4
Year： 2009
Issue： 5
Volume： 30
Page： 706-711
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