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论述了光刻胶在场发射显示器制备中的应用,采用丝网印刷技术将光刻胶转移到镀有金属薄膜的玻璃基片上,利用紫外光对其进行光刻,通过视频显微镜对每一步实验过程进行观察和测试,以确定最佳实验工艺.结果表明,利用200目的丝网将光刻胶印刷至基片上,在85℃下保温60分钟,曝光55s,采用1%的25℃碳酸纳显影60s,110℃下固膜30分钟后,蚀刻出的金属电极精细整齐,为制备FED精细电极奠定了基础.
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现代显示
ISSN： 1006-6268
CN： 11-3670/TN
Year： 2006
Issue： 12
Page： 53-56
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