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利用直流磁控溅射Ta膜和阳极氧化法制备Ta2O5薄膜,能谱分析(EDS)和X射线衍射仪(XRD)研究表明,在H3PO4电解液中添加少量的乙二醇制备的Ta2O5薄膜,呈非晶态,没有β-Ta2O5晶相出现.利用电击穿场强测试系统研究Ta-Ta2O5-Al复合薄膜制备FED器件(MIM结构)的绝缘性,证明采用磁控溅射和阳极氧化法成功制备了漏电流密度低、耐击穿场强高的Ta2O5薄膜.
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集美大学学报(自然科学版)
ISSN： 1007-7405
CN： 35-1186/N
Year： 2011
Issue： 06
Volume： 16
Page： 476-480
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