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叙述了真空静电封接技术的工艺过程 ,对封接结果做扫描电子显微镜 (SEM)断面观察 ,并对封接件断面的元素浓度的深度分布用二次离子质谱分析器 (SIMS)进行分析 ,提出了真空静电封接的类电容器结构的新模型 .
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福州大学学报(自然科学版)
ISSN： 1000-2243
CN： 35-1337/N
Year： 2000
Issue： 02
Page： 16-19
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