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郑灼勇 (郑灼勇.) [1] | 于光龙 (于光龙.) [2] | 张志坚 (张志坚.) [3] | 陈景水 (陈景水.) [4] | 郭太良 (郭太良.) [5] (Scholars:郭太良) | 张永爱 (张永爱.) [6] (Scholars:张永爱)

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要使用射频磁控溅射和化学溶液法制备了SiO2/聚酰亚胺(PI)/SO绝缘膜.分别使用X射线衍射、扫描电镜对薄膜结构和薄膜表面形貌进行了表征;利用超高阻微电流测试仪测试了SiO2/PI/SiO2复合绝缘膜漏电流和电压击穿特性;采用SiO2/PI/SO作为绝缘膜,制作了后栅型场致发射器件,使用场发射测试系统测试了器件的开启电压、发射电流以及发光亮度.结果表明:SiO2/PI/SiO2复合绝缘膜具有高的击穿电压和低的漏电流密度,后栅器件中栅极对阴极表面的电场强度调控作用明显,阳极电压为750V时,栅极开启电压为91 V,阳极电流可达384μA,栅极漏电流仅为59μA,器件最高亮度可达600 cd/m2.

Keyword:

后栅型 场发射 复合薄膜 聚酰亚胺

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  • [ 1 ] [郑灼勇]福州大学
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  • [ 6 ] [张永爱]福州大学

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Source :

真空科学与技术学报

ISSN: 1672-7126

CN: 11-5177/TB

Year: 2012

Issue: 3

Volume: 32

Page: 214-218

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